FUJINON XF55-200mmF3.5-4.8 R LM OIS

Korporacja FUJIFILM (Prezes: Shigehiro Nakajima) ma przyjemność poinformować o wprowadzeniu nowego obiektywu FUJINON XF55-200mmF3.5-4.8 R LM OIS przeznaczonego dla systemowych aparatów fotograficznych FUJIFILM X.

Obiektyw FUJINON XF charakteryzuje się zaawansowaną konstrukcją optyczną, która pozwala maksymalnie wykorzystać wysoki potencjał rejestrowania obrazu matrycy "X-Trans CMOS Sensor" stosowanej między innymi w aparatach fotograficznych FUJIFILM X-Pro1 oraz X-E1.

Nowy obiektyw FUJINON XF55-200mm tworzy ostre obrazy w całym zakresie zoomu, zapewniając właściwą rozdzielczość aż do narożników kadru. Jasny, maksymalny otwór względy obiektywu F3.5-4.8 ułatwia rejestrowanie scen wymagających krótkich czasów migawki. Zastosowana stabilizacja obrazu umożliwia korzystanie z czasów migawki wydłużonych o 4.5 EV zapobiegając efektom poruszenia aparatu nawet przy fotografowaniu z dłuższym czasem migawki bądź przy przymkniętej przysłonie. Co więcej, konstrukcja obiektywu obejmuje dwa liniowe silniki, zapewniające prędkość AF wynoszącą 0.28 sekundy*1, dzięki czemu ostrość jest natychmiast ustawiana na fotografowanym obiekcie.

Najważniejsze cechy:
Zbudowany w oparciu o zaawansowaną konstrukcję optyczną, aby pokryć zakres od średniego telefoto (84mm*2) do teleobiektywu (305mm*2) i zapewnić, niezależnie od swych kompaktowych wymiarów, znaczną jasność F3.5-4.8, obiektyw ten oferuje zarówno mobilność jak i wysoki potencjał obrazowania.
Stabilizacja optyczna pozwala na stosowanie czasów migawki o 4.5 EV dłuższych; zapewnia ona detekcję różnorodnych drgań aparatu, począwszy od niskich aż do wysokich częstotliwości, zapewniając ich zaawansowaną korekcję
Obiektyw wykorzystuje silniki liniowe zapewniające wysoką prędkość AF oraz ciche działanie, dzięki czemu jest on odpowiedni także dla filmowania
Obiektyw posiada w swej konstrukcji dwie soczewki ED, w tym jedną Super ED, które swą sprawnością optyczną stanowią odpowiednik soczewek fluorytowych; wprowadzone rozwiązanie kontroluje aberrację chromatyczną, efekt, który jest typowy dla obiektywów o długiej ogniskowej, zapewniając w całym zakresie zoomu obraz charakteryzujący się odpowiednio wysoką rozdzielczością aż do samych narożników kadru
Zastosowanie opracowanych przez FUJINON powłok"HT-EBC Coating" na całej powierzchni soczewek skutecznie zapobiega refleksjom światła i pozwala kontrolować efekty duszków i poświaty
Obiektyw oferuje minimalny zakres pracy od około 1.1m w całym zakresie zoomu, co pozwala na korzystanie ze zbliżeń telefoto i uchwycenie w kadrze niewielkich fragmentów obiektu
Obiektyw dysponuje pierścieniem regulacji przysłony w krokach co 1/3EV, dzięki czemu użytkownik może łatwo ustawić wartość przysłony nie odrywając aparatu od oka
Pierścień regulacji ostrości oraz pierścień przysłony zostały wykonane z metalu, i poza wytrzymałością i solidnością wykonania, sprawiają, że fotografujący ma poczucie obcowania z wysokiej jakości instrumentem optycznym


Specyfikacja obiektywu:
Producent Fujifilm
Model Fujinon XF 55-200 mm f/3.5-4.8 R LM OIS
Typ obiektywu Teleobiektyw zoom
Ogniskowa 55 - 200 mm
Światłosiła f/3.5 - 4.8
Pole widzenia 29 - 8.1 o
Ostrość od 1.1 m
Maksymalne powiększenie 1:5.5
Minimalna przysłona 22
Liczba listków na przysłonie 7
Konstrukcja 14 elementów / 10 grup
Rozmiar filtra 62 mm
Tryb Makro Nie
Stabilizacja Tak
Dostępne mocowania Fujifilm X
Wymiary 75 x 118 mm
Waga 580 g
Dodatkowe informacje:
1 element asferyczny
2 elementy ED, w tym jeden Super ED
Skuteczność stabilizacji wg producenta do 4.5 EV