WYSYŁKA DZISIAJ !!!


CODZIENNIE W DNI ROBOCZE


WYSTARCZY DO GODZ. 13.00 wysłać do nas:

1) deklarację odbioru przesyłki "za pobraniem"
lub
2) skan przelewu
albo
3) wpłacić za pośrednictwem "Płacę z Allegro"



CIENKIE WARSTWY FERROELEKTRYCZNE
12.09.2010
Zygmunt Surowiak, Vladimir P. Dudkevich

PRACE NAUKOWE UNIWERSYTETU ŚLĄSKIEGO W KATOWICACH NR 1512

Stan książki/ek: BARDZO DOBRY, książka czysta, spójna i kompletna
Wydawnictwo: Uniwersytet Śląski
Nakład: 300 egzemplarzy

Spis treści:

Przedmowa................................................................ 9
Ważniejsze oznaczenia występujące w tekście................................. 14
1. Wstęp do technologii oraz fizyki cienkich i grubych warstw................. 25
1.1. Wprowadzenie...................................................... 25
1.2. Pojęcie warstwy cienkiej............................................. 27
1.3. Pojęcie warstwy grubej .............................................. 32
1.4. Warstwy epitaksjalne................................................ 35
1.5. Przegląd problematyki badawczej z zakresu fizyki cienkich warstw ferroelektrycznych 38
1.6. Podsumowanie...................................................... 40
2. Ogólna charakterystyka ferroelektryków.................................. 412.1. Wprowadzenie...................................................... 41
2.2. Monokryształy ferroelektryczne........................................ 48
2.2.1. Przemiany fazowe............................................. 48
2.2.2. Struktura domenowa, polaryzacja spontaniczna i proces przepolaryzowania 52
2.2.3. Właściwości piezoelektryczne i piroelektryczne..................... 58
2.2.4. Dielektryczna nieliniowość i efekty elektrooptyczne................. 59
2.2.5. Efekty rozmiarowe w monokryształach ferroelektrycznych............ 61
2.3. Ferroelektryki ceramiczne............................................ 67
2.3.1. Technologia.................................................. 67
2.3.2. Mikrostruktura................................................ 69
2.3.3. Osobliwości stanu ferroelektrycznego w materiałach ceramicznych .... 70
2.3.4. Procesy polaryzowania i starzenia................................ 72
2.3.5. Ferroelektryki ceramiczne stosowane w technologii cienkowarstwowej . 73
2.3.6. Efekty rozmiarowe w ferroelektrykach ceramicznych................ 75
2.4. Podsumowanie...................................................... 83
3. Niektóre problemy technologii cienkich i grubych warstw ferroelektrycznych 85
3.1. Wprowadzenie...................................................... 85
3.2. Materiały podłożowe ................................................ 88
3.3. Warstwy kontaktowe i technika maskowania............................ 94
3.4. Przegląd metod otrzymywania warstw ferroelektrycznych.................. 97
3.4.1. Mechaniczne ścienianie ceramiki ................................ 97
3.4.2. Obróbka mechaniczna i chemiczne trawienie monokryształów........ 98
3.4.3. Sitodruk..................................................... 101
3.4.4. Elektroforeza i dielektroforeza................................... 103
3.4.4.1. Osadzanie clektroforetycznc.............................. 103
3.4.4.2. Osadzanie dielektroforetyczne............................ 106
3.4.5. Sedymentacja................................................. 108
3.4.6. Inne klasyczne metody osadzania warstw.......................... 109
3.4.6.1. Lanie szlikieru......................................... 109
3.4.6.2. Topnienie proszku na podłożu metalicznym................ 110
3.4.6.3. Klasyczne metody chemiczne ............................ 110
3.4.6.4. Rozpylanie gazotermiczne ............................... 110
3.4.7. Współczesne metody chemiczne ................................. 111
3.4.7.1. Chemiczne osadzanie z roztworów........................ 111
3.4.7.2. Chemiczne osadzanie z par.............................. 112
3.4.7.3. Metoda zolowo-żelowa.................................. 113
3.4.8. Naparowanie próżniowe........................................ 118
3.4.8.1. Ogólna charakterystyka ................................. 118
3.4.8.2. Powolne naparowanie w próżni .......................... 122
3.4.8.3. Wybuchowe naparowanie w próżni ....................... 123
3.4.8.4. Inne modyfikacje metody naparowania w próżni............ 128
3.4.8.5. Przydatność naparowania próżniowego w technologii cienkich warstw ferroelektrycznych............................... 129
3.4.9. Rozpylanie katodowe .......................................... 131
3.4.9.1. Ogólna charakterystyka ................................. 131
3.4.9.2. Stałoprądowc rozpylanie w układzie diodowym............. 133
3.4.9.3. Stałoprądowe rozpylanie w układzie triodowym............. 137
3.4.9.4. Rozpylanie w polu elektrycznym wielkiej częstotliwości...... 139
3.4.9.5. Przydatność rozpylania katodowego w technologii cienkich warstw ferroelektrycznych...................................... 143
3.5. Podsumowanie...................................................... 150
4. Struktura atomowa i nadatomowa warstw ferroelektrycznych 153
4.1. Wprowadzenie...................................................... 153
4.2. Metodyka badań struktury warstw ferroelektrycznych..................... 154
4.3. Struktury typu perowskitu i pirochloru................................. 159
4.3.1. Struktura typu perowskitu...................................... 159
4.3.2. Struktura typu pirochloru....................................... 161
4.4. Struktura warstw polikrystalicznych.................................... 168
4.4.1. Zarodkowanie i początkowe stadium wzrostu warstw polikrystalicznych 168
4.4.2. Rozmiary ziaren............................................... '73
4.4.3. Defekty struktury w warstwach polikrystalicznych.................. 176
4.4.4. Tekstura..................................................... 182
4.4.4.1. Pojęcie tekstury........................................ 182
4.4.4.2. Tekstura wyprażania (rekrystalizacji)...................... 184
4.4.4.3. Tekstura wzrostu....................................... 187
4.4.5. Struktura domenowa warstw polikrystalicznych .................... 192
4.4.6. Warstwa przejściowa........................................... 200
4.5. Struktura warstw heteroepitaksjalnych.................................. 203
4.5.1. Wzrost heteroepitaksjalny....................................... 203
4.5.2. Defekty struktury warstw heteroepitaksjalnych..................... 213
4.5.3. Struktura domenowa w warstwach heteroepitaksjalnych............. 219
4.6. Podsumowanie...................................................... 230
5. Przemiany fazowe w cienkich warstwach ferroelektrycznych 232
5.1. Wprowadzenie...................................................... 232
5.2. Rozmyte przemiany fazowe w ferroelektrykach .......................... 233
5.3. Zmiana struktury atomowej i struktury domenowej w funkcji temperatury . 238
5.4. Przemiany fazowe w warstwach heteroepitaksjalnych..................... 242
5.4.1. Przenikalność elektryczna w obszarze przemiany fazowej............ 242
5.4.2. Polaryzacja i pole koercji w obszarze przemiany fazowej............ 252
5.5. Przemiany fazowe w cienkich warstwach polikrystalicznych ............... 254
5.6. Podsumowanie...................................................... 258
6. Niektóre właściwości fizyczne cienkich warstw ferroelektrycznych............ 259
6.1. Wprowadzenie...................................................... 259
6.2. Procesy przepolaryzowania............................................ 260
6.2.1. Przepolaryzowanie w polu sinusoidalnie zmiennym................. 260
6.2.2. Przepolaryzowanie w prostokątnych impulsach hirudina napięcia zmiennego. 265
6.3. Właściwości piezoelektryczne i piroelektryczne .......................... 273
6.4. Właściwości nieliniowe.............................................. 276
6.5. Właściwości elektrooptyczne.......................................... 281
6.6. Podsumowanie...................................................... 283
7. Zastosowanie cienkich warstw ferroelektrycznych.......................... 285
7.1. Wprowadzenie..................................................... 285
7.2. Kondensatory o dużej elektrycznej pojemności właściwej................. 286
7.3. Kondensatory nieliniowe............................................ 289
7.4. Układy pamięci nieulotnych ......................................... 290
7.5. Układy pamięci dynamicznych ....................................... 290
7.6. Przetworniki z akustyczną falą powierzchniową......................... 291
7.7. Sensory mechaniczno-elektryczne..................................... 291
7.8. Mikrosiłowniki .................................................... 292
7.9. Sensory promieniowania podczerwonego............................... 293
7.10. Aktywne falowody optyczne ......................................... 294
7.11. Przestrzenne modulatory światła...................................... 294
7.12. Podwajacze częstotliwości........................................... 295
7.13. Podsumowanie..................................................... 295
Literatura............................................................. 297
Literatura uzupełniająca................................................ 316
Indeks nazwisk......................................................... 320
Summary.............................................................. 329
Pe3K)Me............................................................... 331